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深圳市賡旭光電科技有限公司

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可見光衰減片

可見光衰減片

可見光衰減片光學指標:截止波段:400~700nm@T=0.001%,0.01%,0.1%,1%,10%,20%,30%,40%,50%,60%,70%,80%,90%。

注:以上參數僅供參考,可見光衰減片參數指標請咨詢我公司的在線客服人員或致電我公司。
相關名詞解釋

可見光衰減片應用領域:醫療設備光探測器、臨床生化分析設備、化學檢測設備、各種光學儀器設備、電子學顯像系統、紫外測量儀器、各種激光器、光學數碼照相機、攝像機、安防監控攝像機、光通訊衰減濾波器。

使用注意事項:

1.使用時請戴好手指套,不要用手指直接觸碰可見光衰減片表面,以免殘留的手指影響中性密度濾光片通光效果。

2.如可見光衰減片表面臟時,可用無塵沾上酒精擦拭鏡片表面。不可用表面很粗糙的布或紙或沾水擦拭,否則會損壞可見光衰減片表面。

3.檢查光路各調整光軸時,請一定做好相應的防護。

4.如果用了可見光衰減片后系統效果還是不好,請把詳細光路系統告訴我們,我們來幫您分析原因,讓您少走很多冤枉路。(當然,我們會對客戶的方案保密,盡可放心!和客戶一起成長是我們不變的宗旨)。

可見光衰減片的方法有很多種,包括電鍍、化學鍍,真空蒸發鍍以及磁控 濺射鍍膜法。

工業化生產中人們既關心產品的綜合性能又要考慮制備成本,在 以上制備方法中化學鍍膜工藝流程簡單,成本低廉,且操作簡便,因此受到人 們的重視,但該方法會產生廢液,污染環境;磁控濺射鍍膜工藝技術先進, 制備的薄膜具有質量保證,是目前廣泛應用的一種制備手段,相比于其他方 法,磁控濺射鍍膜具有成膜速率高,基片溫度低,膜粘附性好等鍍膜優點,而 且對環境無污染,適合低碳要求,是一種綠色制造技術,是最有發展前景的表 面涂覆技術之一 。

從市場需求的角度看,滿足光衰減器小型集成化、系列 化的發展,但其使用設備儀器復雜,靶材尺寸固定,原材料需要加工,成本相 對較高 。

基于產品性價比的考慮,有必要對化學鍍和磁控濺射鍍這兩種典 型鍍膜方法進行綜合分析和對比,進而研究工藝參數對 Ni/Si O 2 光衰減片的表 面形貌、晶體結構、三維結構、粗糙度以及對光衰減率的影響,通過調節工藝 參數來獲得具有不同光衰減率的光衰減片,從而滿足人們對不同膜系功能的需 求。

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